我们不妨看一看品一照明过去几年的辉煌业绩：国电2013年1000万，国电2014年6000万，2015年超过一个亿，2015年仅双十一当天就销售1200万，半年前他们还喊出2016冲击4亿的目标!年销售过亿为什么还要关门?摆明就是不赚钱!当然，也可能面临其他更棘手的问题。

创造高密度纳米孔(约1012 cm−2)的能力有助于提高分子渗透性，司中素智这可以更容易地通过体积测量而无需微机械设备的帮助。b,d，弘像户规对于PITEM(50)(b)和PITEM(20)(d)纳米多孔石墨烯膜，粘度和渗透率的乘积对最小可渗透溶剂直径Pd*的关系。

a，区电RB和SD混合物通过裸PITEM(50)和PITEM(50)_G_45分钟在乙醇中蚀刻1h的UV-vis数据。c，力光石墨烯孔隙形成前，通过界面聚合选择性封闭撕裂和缺陷的示意图。背景介绍纳米尺度限域下的流体传输涉及丰富而未被探索的物理学，纤用续扩是生物学以及与资源回收、纤用续扩能量存储和转换、催化和生物医学相关的各种新兴技术中的普遍现象。

b，模持在a中测定了膜暴露于丙酮或正己烷12h前后，SD在乙醇中对RB的选择性值。图3.亚连续介质压力驱动的液体通过原子薄的纳米多孔石墨烯膜a,c，国电由50nm孔径的PITEM(50)(a)和20nm孔径的PITEM(20)(c)支撑的不同造孔条件制备的纳米多孔石墨烯膜的渗透率-黏度图。

b，司中素智在不同的造孔刻蚀时间下，溶剂调制的选择性溶质通过离子辐照纳米多孔石墨烯膜扩散。

小结由二维材料制成的多孔膜通过尺寸排除实现了分子分离，弘像户规通常表现出黏度主导的液体流动行为(包括最近开发的多层氧化石墨烯)，弘像户规这可能是由于在大的连续区域内难以形成稳定的小于0.6nm的孔隙。高电流密度则会导致电极表面附近的锂离子和阴离子被清除，区电从而获得巨大的空间电荷电场，并造成锂枝晶生长[1]。

在这一模型中，力光枝晶形成的最初过程可被描述为电沉积过程，该过程被电迁移所限制而不是被扩散所限制。 锂枝晶生长的模型介绍在解释枝晶生长的过程方面发展出了几种典型的模型：纤用续扩分别是表面张力模型、纤用续扩扩散限制的布朗模型和电迁移限制的Chazalviel模型。

Chen等[5]的研究则利用受激拉曼散射光谱（SRS）对电解质锂离子传输进行了在线3D可视化，模持并在两步法机制中进一步引入了中间步骤。国电图5析锂回嵌的坑形成和在随后的析锂过程中在坑中形成锂沉积Sanchez[12]等人还利用平面俯视在线video显微学研究了析锂枝晶和析锂回嵌中坑的锂形核和生长与电流密度的函数关系